真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的一個(gè)重要分支，它已廣泛地應(yīng)用于光學(xué)、電子學(xué)、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機(jī)械、包裝、民用制品、表面科學(xué)以及科學(xué)研究等領(lǐng)域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。此外還有化學(xué)氣相沉積法。假如真空泵鍍層的目地是更改原料表層的物理學(xué)和工藝性能，該技術(shù)性是真空泵金屬表層解決技術(shù)性的重要構(gòu)成部分?，F(xiàn)就其幾個(gè)主要應(yīng)用方面做一簡單介紹。

在電子光學(xué)層面,用不一樣化學(xué)物質(zhì)層或?qū)渝儗拥墓鈱W(xué)鏡片或方解石表層,可變成高反射或者非反射膜(即反反射膜)或一切需要的反射或透射原材料占比,或能用來消化吸收一些光波長,并傳送另一光波長的過濾器。高反射膜從大口徑的天文望遠(yuǎn)鏡和各種激光器開始、一直到新型建筑物的大窗鍍膜茉莉，都很需要。透水性膜用以拍攝和各種各樣激光發(fā)生器的起動，直至在建大中型鍍層夾層玻璃，是十分必須的。增透膜則大量用于照相機(jī)和電視攝象機(jī)的鏡頭上。在電子學(xué)方面真空鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運(yùn)算器、告訴邏輯元件等都要采用導(dǎo)電膜、絕緣膜和保護(hù)膜。作為制備電路的掩膜則用到鉻膜。磁帶、磁盤、半導(dǎo)體激光器，約瑟夫遜器件、電荷耦合器件（CCD）也都甬道各種薄膜。

在顯示信息一部分，選用真空電鍍法制取了平面圖顯示儀表的紀(jì)錄頭、密度高的視頻帶和全透明導(dǎo)電膜、攝像管的光導(dǎo)膜和顯示管顯示屏的鋁襯。在元件方面，在真空中蒸發(fā)鎳鉻，鉻或金屬陶瓷可以制造電阻，在塑料上蒸發(fā)鋁、一氧化硅、二氧化鈦等可以制造鍍膜電容器，蒸發(fā)硒可以得到靜電復(fù)印機(jī)用的硒鼓、蒸發(fā)鈦酸鋇可以制造磁致伸縮的起聲元件等等。真空蒸發(fā)還可以用于制造超導(dǎo)膜和慣性約束巨變反應(yīng)用的微珠鍍層。