真空鍍膜就是指在真空下，將某類金屬材料或金屬化合物以液相的方式沉積到原材料表面（一般 是非金屬材質(zhì)），歸屬于物理學(xué)液相沉積加工工藝（PVD）。由于涂層常以金屬材料塑料薄膜，故也稱真空泵金屬化。真空涂層理論也包括在金屬或非金屬表面真空泵蒸發(fā)涂層聚合物和其他非金屬材料多功能塑料薄膜。PVD真空鍍膜有三種方式，即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍。在其中，揮發(fā)物質(zhì)的分子被電子器件撞擊弱電解質(zhì)后，以正離子沉積在固態(tài)表面，稱之為離子鍍。

這類技術(shù)是D.麥托阿斯特里于1963年明確提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與負(fù)極磁控濺射技術(shù)的融合。真空泵離子鍍膜又可分成電孤離子鍍、磁控濺射離子鍍、中空負(fù)極離子鍍膜三種方法。真空鍍膜的作用是各個(gè)方面的，這也決策了其運(yùn)用場(chǎng)所比較豐富。整體而言，真空鍍膜的關(guān)鍵作用包含授予被鍍件表面高寬比金屬質(zhì)感和鏡面玻璃實(shí)際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優(yōu)異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導(dǎo)電性實(shí)際效果。如腕表機(jī)殼鍍仿金黃，機(jī)械設(shè)備數(shù)控刀片鍍膜等。

表面解決的迅速發(fā)展趨勢(shì)及廣泛運(yùn)用被覺(jué)得是生產(chǎn)制造行業(yè)中的關(guān)鍵進(jìn)度，以其應(yīng)用性和高品質(zhì)、低消耗的特性在加工制造業(yè)、檢修業(yè)中攻占了銷售市場(chǎng)，而且呈平穩(wěn)升高的趨勢(shì)。現(xiàn)階段技術(shù)完善并資金投入工業(yè)生產(chǎn)具體運(yùn)用的表面解決技術(shù)已高達(dá)上千種，表面生產(chǎn)加工技術(shù)不但是商品本質(zhì)品質(zhì)得到確保的重要，也是商品外型品質(zhì)保證的關(guān)鍵方式。