PVD鍍膜也叫“物理氣相沉積鍍膜”這種涂裝工藝應(yīng)用范圍廣，局限性小，但真正了解它的人并不多。PVD鍍膜設(shè)備更是屈指可數(shù)，下面青島真空鍍膜設(shè)備廠家小編為大家詳細(xì)介紹一下，希望對大家有所幫助：

PVD三大分類：真空濺射鍍膜、真空離子鍍膜、真空揮發(fā)鍍膜。

PVD用于鍍膜的設(shè)備：一般稱為PVD真空鍍膜設(shè)備或PVD真空鍍膜機(jī)

PVD涂層原理：在真空環(huán)境中，選擇低壓、大電流電弧放電技術(shù)，使用揮發(fā)源加熱或使用電弧放電，離子轟擊使鍍材料積累在需要鍍的商品表面。

PVD可以鍍膜的薄膜層：它可以鍍各種單一的金屬薄膜層(金、銀、鋁、鋅、鈦等)，氧化物薄膜層（TiO等等)，滲碳體膜層（TiC，TiCN等等)，氮化物膜層（TiN，CrN，TiAiN等等，膜色調(diào)可以是純色，也可以是七色。薄膜層厚度為微米級，真空鍍膜層厚度較薄，鍍膜層幾乎不影響商品規(guī)格。

真空濺射涂料：

在放電過程中濺射技術(shù)的基礎(chǔ)上，濺射通常是在電弧放電的情況下產(chǎn)生的。濺射應(yīng)使用含有高動能的顆粒或離子束對固體表面進(jìn)行轟擊，以獲得靠近固體表面的原子的入射顆粒，將部分能量從固體中分離出來，進(jìn)入真空并在商品上積累。

影響濺射效果的因素：1.目標(biāo)；2.轟擊離子的質(zhì)量；3.轟擊離子的能量；

真空離子涂層：

在揮發(fā)鍍和濺射鍍的前提下，離子鍍需要新的鍍膜技術(shù)，真空鍍和濺射鍍PVD在等離子體中進(jìn)行鍍膜工藝，離子鍍能獲得膜層的優(yōu)良特性，其膜層特性：

1.表面光潔度好，可嚴(yán)格控制堆積厚度；

2.薄膜附著力強(qiáng)，結(jié)合性高；

3.薄膜層厚度均勻，無邊界效應(yīng)；

4.膜層密度高。

真空揮發(fā)鍍膜：

在真空室中，對揮發(fā)源薄膜原料進(jìn)行加熱，然后產(chǎn)生原子或分子蒸汽流入商品表面固化產(chǎn)生固體膜。

優(yōu)點(diǎn)：蒸發(fā)設(shè)備比較便宜，操作簡單，成膜速度快，鍍膜層純度高，質(zhì)量好，能控制薄厚；

缺陷：膜層附著力低，工藝重復(fù)性不夠好，不易得到膜層的結(jié)晶結(jié)構(gòu)。

對于這三種PVD就涂裝工藝而言，不同的商品需要選擇不同的工藝，配備專用設(shè)備。PVD鍍膜設(shè)備由真空腔、電源系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、制冷系統(tǒng)、真空系統(tǒng)及零部件組成，價格各異。