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真空鍍膜設(shè)備的鍍膜方式有哪些？

點(diǎn)擊數(shù)：599 發(fā)表時(shí)間：2023-01-09 10:45:29

真空鍍膜設(shè)備的鍍膜方式有哪些？涂層設(shè)備是在高真空狀態(tài)下熔化和蒸發(fā)金屬鋁，使鋁蒸汽沉積在塑料薄膜表面，使塑料薄膜表面具有金屬光澤的設(shè)備。真空涂層技術(shù)作為一種生產(chǎn)特定薄膜的技術(shù)，廣泛應(yīng)用于現(xiàn)實(shí)生產(chǎn)和生活中。

真空鍍膜設(shè)備的鍍膜方式有哪些？

青島真空鍍膜設(shè)備的涂層方法：離子鍍、蒸發(fā)鍍、濺射鍍

(1)涂層設(shè)備特點(diǎn):成膜速度快0.1-50um/min，設(shè)備相對(duì)簡(jiǎn)單，操作方便；薄膜純度高；薄膜生長(zhǎng)機(jī)制簡(jiǎn)單。

(2)缺點(diǎn):薄膜附著力小，結(jié)晶不完善，工藝重復(fù)性不夠好。

鍍膜設(shè)備鍍出的產(chǎn)品怎么掉膜？

真空鍍膜設(shè)備的鍍膜方式有哪些？

一、產(chǎn)品表面清潔度不夠，離子源清洗氬氣放大時(shí)間較長(zhǎng)。

二、清洗是否添加清洗劑，或更換清洗劑，建議先用純水試試。

第三，膜厚和電流可以調(diào)整工藝參數(shù)是否有變化。

還有靶材問(wèn)題。


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