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行業(yè)資訊
  • 升億順淺談?wù)婵斟兡ず凸鈱W(xué)鍍膜有什么區(qū)別
    一、概念的差異1.真空鍍膜加工是指在高真空下加熱金屬或非金屬材料,在涂層零件(金屬、半導(dǎo)體或絕緣體)表面蒸發(fā)凝結(jié)形成薄膜的方法。2.光學(xué)涂層是指在光學(xué)零件表面涂一層(或多層)金屬(或介質(zhì))膜的過程。光學(xué)零件表面涂層的目的是減少或增加對光、分光、分色、濾波和偏振的反射。常用的涂層方法有真空涂層(物理涂層)...
  • 升億順淺析真空鍍膜前清洗注意哪些事項(xiàng)!
    pvd真空涂層工件前表面的清潔非常重要,直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。進(jìn)入涂層室前,應(yīng)仔細(xì)清潔工件。工件表面污染來自各種灰塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油、汗液等物質(zhì)。為了避免加工過程中的缺陷,青島鍍膜加工廠基本上可以通過脫脂或化學(xué)清洗來去除工件表面的污漬。清潔后的物體表面不應(yīng)存放在車間內(nèi),而應(yīng)存放在封閉的容器或...
  • 真空鍍膜加工的清潔工作
    在PVD在真空涂層過程中,表面清潔非常重要,直接影響產(chǎn)品的電鍍質(zhì)量。在進(jìn)入涂層室之前,在涂層前必須仔細(xì)清潔。表面污染來自于工作部件的加工和運(yùn)輸,以及各種灰塵、潤滑油、油、拋光膏、油、汗液等。附著在包裝過程中。為避免加工過程中引起的不良反應(yīng)PVD在真空鍍膜加工過程中,青島鍍膜加工廠一般可采用脫脂或化學(xué)清洗的...
  • PVD真空鍍膜技術(shù)在注塑模具中的應(yīng)用
    PVD,也就是說,物理氣相沉積是世界上廣泛使用的表面處理技術(shù)。其工作原理是在真空條件下,通過氣體放電將氣體或蒸發(fā)物質(zhì)部分電離,蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物在氣體離子或蒸發(fā)物質(zhì)離子轟擊時(shí)沉積在襯底上。它具有沉積速度快、表面清潔的特點(diǎn),特別是附著力強(qiáng)、衍射性好、涂層材料廣。PVD該技術(shù)出現(xiàn)于20世紀(jì)70年代末,制備的薄膜具...
  • 淺析真空鍍膜前清洗注意哪些事項(xiàng)!
    pvd真空涂層工件前表面的清潔非常重要,直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。進(jìn)入涂層室前,應(yīng)仔細(xì)清潔工件。工件表面污染來自各種灰塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油、汗液等物質(zhì)。為了避免加工過程中的缺陷,青島真空鍍膜加工制造商基本上可以通過脫脂或化學(xué)清洗來去除工件表面的污漬。...
  • 真空鍍膜加工的清潔工作
    在PVD真空鍍膜過程中,表面的清潔處理十分重要,直接影響產(chǎn)品的電鍍質(zhì)量。進(jìn)鍍膜室之前必須經(jīng)過認(rèn)真的鍍前清洗處理,表面污染來自工件的加工、輸送,在包裝過程中附著的各種灰塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等,為避免加工時(shí)引起的不良反應(yīng),在PVD真空鍍膜加工過程中,廠家一般可以通過去油或化學(xué)清洗的方法去除。對...
  • 離子真空鍍膜技術(shù)在模具制品的應(yīng)用
    離子真空鍍膜技術(shù)在模具制品的應(yīng)用:真空離子電鍍可區(qū)分為:多弧離子鍍膜、蒸發(fā)源離子鍍膜、濺射離子鍍膜及同基合金離子鍍。常規(guī)的表面處理技術(shù)相比,應(yīng)用于模具的多弧離子鍍的優(yōu)點(diǎn)是鍍層均勻,、鍍材金屬離化率高,適于鍍各種形狀的工件;其缺點(diǎn)是鍍層表面光潔度低。多弧離子鍍是采用電弧放電直接蒸發(fā)靶材,而鍍材則加工成...
  • 什么是真空鍍膜技術(shù)
    真空鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使之蒸發(fā)或升華,并飛行濺射到被鍍基板表面凝聚成膜的工藝。在真空條件下成膜有很多優(yōu)點(diǎn):可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向基板過程中于分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),以及減少成膜過程中氣體分子進(jìn)入薄...
  • 如何處理真空鍍膜機(jī)鍍制薄膜不均勻的問題
    隨著鍍膜技術(shù)的快速增長,各種類型的真空鍍膜機(jī)也開始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性,恐怕所有的真空設(shè)備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響,現(xiàn)在我們就濺控濺射鍍膜機(jī)來看看造成不均勻的因素有哪些。 對此,真空鍍膜機(jī)廠家指出,它的運(yùn)作原理其實(shí)很簡單。就是通過真空狀態(tài)下正交磁場使電子轟擊氬氣形成的氬離子再轟...
  • 真空鍍膜和光學(xué)鍍膜區(qū)別有哪些
    真空鍍膜主要利用輝光放電將氬氣離子撞擊靶材表面, 靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的性質(zhì)、均勻度都比蒸鍍薄膜來的好,但是鍍膜速度卻比蒸鍍慢很多。新型的濺鍍設(shè)備幾乎都使用強(qiáng)力磁鐵將電子成螺旋狀運(yùn)動(dòng)以加速靶材周圍的氬氣離子化, 造成靶與氬氣離子間的撞擊機(jī)率增加,提高濺鍍速率。光學(xué)鍍膜 無論是無...
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